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操作需謹慎!小型蒸鍍儀操作時(shí)需要注意這些

更新時(shí)間:2023-11-25點(diǎn)擊次數:656
  小型蒸鍍儀的工作環(huán)境需要保持極低的氣壓,通常在10-4至10-7帕之間。這種低氣壓環(huán)境能夠有效減少氧氣和水蒸氣對材料表面的反應,從而避免蒸鍍過(guò)程中可能產(chǎn)生的氧化等不良反應。真空系統通常由泵、閥門(mén)、壓力計和真空室等組成。
 
  小型蒸鍍儀的使用方法:
 
  1.準備工作:先將蒸鍍儀所需的材料和設備準備齊全,如鍍膜材料、基底材料、控制系統等。
 
  2.裝載基底:將待鍍膜的基底材料放置在蒸鍍儀的樣品臺上,確保基底表面干凈且無(wú)硬性顆粒。
 
  3.準備鍍膜材料:根據實(shí)際需要,選擇合適的鍍膜材料,并將其放置在蒸鍍儀的熱源中。
 
  4.抽真空:打開(kāi)蒸鍍儀的抽氣系統,通過(guò)抽真空將腔室內的氣體排空,直至達到所需的真空度。
 
  5.加熱熱源:打開(kāi)蒸鍍儀的加熱系統,將鍍膜材料加熱至其蒸發(fā)溫度,使其逐漸蒸發(fā)。
 
  6.沉積薄膜:在基底處形成蒸氣氣氛后,蒸發(fā)的鍍膜材料會(huì )沉積在基底上,形成薄膜。
 
  7.控制沉積速度:通過(guò)控制加熱功率、抽氣速度以及蒸發(fā)源與基底的距離等參數,來(lái)控制薄膜的沉積速度和質(zhì)量。
 
  8.結束沉積:根據需要,當達到設定的薄膜厚度或所需的沉積時(shí)間后,關(guān)閉加熱系統和抽氣系統,結束沉積過(guò)程。
 
  9.冷卻樣品:待沉積結束后,可以通過(guò)冷卻系統對樣品進(jìn)行降溫,以快速冷卻薄膜并固化。
 
  10.取出樣品:沉積完畢后,將基底取出,注意避免對薄膜的損傷。
 
  需要注意的是,使用小型蒸鍍儀時(shí)應嚴格按照設備的操作手冊進(jìn)行操作,并注意安全事項,避免發(fā)生危險或損壞設備。在使用過(guò)程中,還需要不斷優(yōu)化和調整操作參數,以獲得所需的膜層性能。
小型蒸鍍儀
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